本文標(biāo)題："測涂層內(nèi)總微孔容積或是平均微孔半徑分析顯微鏡"
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測涂層內(nèi)總微孔容積或是平均微孔半徑分析顯微鏡
輻射電子成像法
在傳輸成像中利用電子(或p射線)而不是光子，是因為電子受
涂層的影響比受原紙的影響更強(qiáng)烈。這是因為與碳原子占優(yōu)勢的紙
張相比較，無機(jī)顏料有更高的平均原子量。較重的原子有較密的電
子云，因而與電子束的相互作用更強(qiáng)烈。傳輸電子成像就比傳輸光
成像給予更精確的涂布量分布圖像。
Kubelka—Munk理論
Kubelka—Munk理論可用以推測涂層內(nèi)部相關(guān)顏料堆積效率方
面的信息。有時往往自然地假設(shè)顏料散射性是一個內(nèi)在性能，顏料
混合物的散射性可按其顏料成分的線性組合進(jìn)行計算。但實際并不
是這樣，因為散射性跟顏料所處環(huán)境有十分復(fù)雜的關(guān)系。形成顏料
混合物并不難，但其所得的堆積密度則可能會比單個組分要好些或
壞些。這就使形成的散射系數(shù)低于或高于根據(jù)線性綜合計算所預(yù)測
的結(jié)果。因此如果涂布配料形成低于或高于所需的散射系數(shù)，就可
以推斷該涂層比單獨組分有不同的微孔結(jié)構(gòu)。可能不同點或是總
微孔容積或是平均微孔半徑。
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