本文標(biāo)題："制作高數(shù)值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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制作高數(shù)值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡
1.利用八階微透鏡的光罩與負(fù)光阻，可制作出凹透鏡以及凹面
鏡，因此可以利用凹面鏡的功用以取代凸透鏡和鏡子組合的
功用，目前已做了光阻、矽基板與石英基板的蝕刻速率之量
測(cè)，以幫助未來蝕刻之條件。
2.利用較高的折射率的材料如鈮酸鋰(LiNbO3)等，就可制作出
數(shù)值孔徑較高的微透鏡。由于我們使用高折射率的材料的目
的是要改善數(shù)值孔徑，由于繞射式平凸透鏡的 NA 值最大值
可達(dá)到 n-1，石英基板的折射率 n 為 1.5，所以以石英為基板
之繞射式元件的數(shù)值孔徑最大值可達(dá)到 0.5﹔而鈮酸鋰的折射率 n 為 2.1~2.3，
所以以鈮酸鋰為基板的微透鏡其數(shù)值孔徑最
大值可到 1.1~1.3，因此若我們將元件的材質(zhì)改為鈮酸鋰的
話，我們將可制作高數(shù)值孔徑的微透鏡﹔
而且未來 CD-ROM或是 DVD-ROM 讀寫頭所用的聚焦透鏡之?dāng)?shù)值孔徑也將會(huì)達(dá)
到 0.6~0.8，因此由石英基板所制成之平凸微透鏡無法達(dá)到此
要求，所以我們將要把材料改為高折射率的材料才能制作高
數(shù)值孔徑之微透鏡。我們針對(duì)鈮酸鋰和石英基板的蝕刻情況
做一比較，利用活性離子蝕刻的方式來進(jìn)行蝕刻[28] [29]，而
石英基板的蝕刻速率較鈮酸鋰的蝕刻速率快的許多
(在相同情況下，石英基板的蝕刻速率為每分鐘 40nm﹔鈮酸鋰的蝕刻速率為每分鐘 3nm)，
而且石英基板的表面粗糙度也較鈮酸鋰的
表面緩和，因此我們無法用活性離子蝕刻的方式來蝕刻鈮酸
鋰，所以在未來的工作中將會(huì)使用感應(yīng)式耦合電漿蝕刻機(jī)(ICP)
對(duì)鈮酸鋰進(jìn)行蝕刻，以改善蝕刻速率。
3.對(duì)于灰階光罩之光阻與光密度之間的關(guān)系已經(jīng)量測(cè)，這有利
我們著手于制作灰階光罩的資料
灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡圖形
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