本文標(biāo)題：" 激光光壓作用于微粒的影響-材料科學(xué)常識(shí)"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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激光光壓作用于微粒的影響-材料科學(xué)常識(shí)
討論激光制程中激光光壓作用于微粒之影響，利用激光光壓施加于微粒之作用力將物體定位、排列或堆積，
可成為激光制程中一種新的應(yīng)用。由于光壓現(xiàn)象是激光光與微粒之間復(fù)雜的交互作用，
目前并沒(méi)有一種可廣泛適用于所有狀況的理論模型，常用的模型分為“幾何光學(xué)模型”及“電磁波模型”。
對(duì)“幾何光學(xué)模型”進(jìn)行修正，討論如何降低在計(jì)算微粒較小的粒子時(shí)的誤差，
使此模型能準(zhǔn)確預(yù)估微粒所受的光壓作用力，達(dá)到準(zhǔn)確控制微粒的目的。
文中提出修正高斯光束模式，考慮光束經(jīng)由曲線聚焦后為一個(gè)面而非一個(gè)點(diǎn)，并由文獻(xiàn)及實(shí)驗(yàn)中分別比較不同參數(shù)條件下，使用一般幾何光學(xué)模型及修正模式分
別得到的理論計(jì)算值，與實(shí)驗(yàn)量測(cè)值互相比較的結(jié)果。
從研究中可以發(fā)現(xiàn)幾何光學(xué)模型在配合使用高倍率物鏡及較大微粒粒徑的情形下，理論值與實(shí)驗(yàn)值相當(dāng)接近
；但是在使用低倍率物鏡或小粒徑微粒時(shí)，誤差會(huì)增大。而經(jīng)過(guò)修正后之模型，在高倍率物鏡、
微粒粒徑足夠大的情形下得到的結(jié)果與幾何光學(xué)模型之結(jié)果相當(dāng)接近；且在使用低倍率物鏡或小粒徑微粒時(shí)，
與實(shí)驗(yàn)值相較仍具有相當(dāng)?shù)臏?zhǔn)確度，因此修正后的模型適用的情形更廣泛，可用來(lái)準(zhǔn)確估算光壓作用力
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