本文標(biāo)題:" 激光光壓作用于微粒的影響-材料科學(xué)常識"
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激光光壓作用于微粒的影響-材料科學(xué)常識
討論激光制程中激光光壓作用于微粒之影響,利用激光光壓施加于微粒之作用力將物體定位、排列或堆積,
可成為激光制程中一種新的應(yīng)用。由于光壓現(xiàn)象是激光光與微粒之間復(fù)雜的交互作用,
目前并沒有一種可廣泛適用于所有狀況的理論模型,常用的模型分為“幾何光學(xué)模型”及“電磁波模型”。
對“幾何光學(xué)模型”進行修正,討論如何降低在計算微粒較小的粒子時的誤差,
使此模型能準(zhǔn)確預(yù)估微粒所受的光壓作用力,達到準(zhǔn)確控制微粒的目的。
文中提出修正高斯光束模式,考慮光束經(jīng)由曲線聚焦后為一個面而非一個點,并由文獻及實驗中分別比較不同參數(shù)條件下,使用一般幾何光學(xué)模型及修正模式分
別得到的理論計算值,與實驗量測值互相比較的結(jié)果。
從研究中可以發(fā)現(xiàn)幾何光學(xué)模型在配合使用高倍率物鏡及較大微粒粒徑的情形下,理論值與實驗值相當(dāng)接近
;但是在使用低倍率物鏡或小粒徑微粒時,誤差會增大。而經(jīng)過修正后之模型,在高倍率物鏡、
微粒粒徑足夠大的情形下得到的結(jié)果與幾何光學(xué)模型之結(jié)果相當(dāng)接近;且在使用低倍率物鏡或小粒徑微粒時,
與實驗值相較仍具有相當(dāng)?shù)臏?zhǔn)確度,因此修正后的模型適用的情形更廣泛,可用來準(zhǔn)確估算光壓作用力
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